공정 중 발생하는 오염물로부터 EUV mask를 보호하기 위한 EUV pellicle에 대한 연구뿐만 아니라 노광기 투입 전 오염 EUV mask를 직접 cleaning 하여 오염물을 제어하기 위한
연구 또한 중요합니다. 기존 반도체 공정에서 널리 사용하고 있는 세정 기법들은 EUV mask를 cleaning 하는 데 있어 mask 표면의 거칠기 변화, 반사도 저하, 유기물 오염 등 다양한
문제점을 야기하고 있으며, 이를 해결하기 위한 세정 공정 개발이 필요합니다.
EUV IUCC에서는 EUV mask 표면 상에 존재하는 미세 입자를 재현하고, 이를 제거하기 위한 세정 공정 기술 연구를 지원합니다.

• 미세 입자 증착 시편 제작 및 표면상의 defect 특성 분석
• EUV mask/pellicle 표면 건식/습식 세정 공정 평가
• 세정 공정 효율 산출 및 기구 규명