EUV Weekly News(08/28) AMAT High-NA EUV 공정 위한 최적의 전자현미경 조건 찾았다 | |
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작성자 : 관리자(ehdrl1987@naver.com)작성일 : 2023-08-28조회수 : 153 | |
EUV NEWSEUV-IUCC 에서 제공하는 한 주간의 EUV 최신 뉴스입니다.인텔의 부활 예고 “최근 10년 최고 기술…EUV 장비 충분히 확보”[인터뷰] "EUV 도입한 인텔4, 삼성·TSMC보다 경쟁우위"…′하이NA ..."인텔4 양산 문제없다…TSMC 5나노 대비 성능 우위"AMAT "High-NA EUV 공정 위한 최적의 전자현미경 조건 찾았다"대만 TSMC, 미국 애리조나주 공장에 EUV 노광장비 도입삼성전자 “반도체 계측검사 국산화율 5% 미만”“삼성 美 파운드리 공장 가동계획 순항”[피스앤칩스]파운드리 봄 기다리는 업계…2나노 경쟁 예열[기자수첩] 중국의 ′반도체굴기′, 애당초 불가능한 중국몽(夢)이었다한은 "中 경기, 반도체 업황 좌우…경기·충청에 파급"[단독] "HBM·DDR5 더 줘"…엔비디아·메타, SK하이닉스 찾아 한국 왔다 - 뉴스1[피스앤칩스]파운드리 봄 기다리는 업계…2나노 경쟁 예열
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